ECL Plus?高敏發(fā)光液

ECL Plus?化學(xué)發(fā)光底物說明書?DuraECL?,?FemtoECL?，PicoECL?，ECLplus?為北京富百科生物技術(shù)有限公司注冊(cè)商標(biāo)，未經(jīng)授權(quán)嚴(yán)禁使用！保存：室溫運(yùn)輸，收到后在4℃避光下儲(chǔ)存試劑?一. 產(chǎn)品描述：? ?ECL Plus?超敏發(fā)光液用于檢測(cè)直接或間接標(biāo)記辣根過氧化物酶HRP的抗體及其關(guān)聯(lián)的抗原。由于采用了富百科核心技術(shù)基于“熒光震蕩”機(jī)理設(shè)計(jì)的發(fā)光底物系統(tǒng)?？赏℉RP實(shí)現(xiàn)低皮克級(jí)(以HRP濃度為準(zhǔn))的免疫印跡檢測(cè)，其靈敏度，發(fā)光時(shí)間和背景均明顯優(yōu)秀。（1）??? 可使用更高的抗體稀釋倍數(shù)(1:2000～1:10000)，極其節(jié)省抗體。（2）?...

詳細(xì)信息

ECL Plus^?化學(xué)發(fā)光底物說明書

?DuraECL^?,?FemtoECL^?，PicoECL^?，ECLplus^?為北京富百科生物技術(shù)有限公司注冊(cè)商標(biāo)，未經(jīng)授權(quán)嚴(yán)禁使用！

保存：室溫運(yùn)輸，收到后在4℃避光下儲(chǔ)存試劑?

一. 產(chǎn)品描述：

? ?ECL Plus^?超敏發(fā)光液用于檢測(cè)直接或間接標(biāo)記辣根過氧化物酶HRP的抗體及其關(guān)聯(lián)的抗原。由于采用了富百科核心技術(shù)基于“熒光震蕩”機(jī)理設(shè)計(jì)的發(fā)光底物系統(tǒng)?？赏℉RP實(shí)現(xiàn)低皮克級(jí)(以HRP濃度為準(zhǔn))的免疫印跡檢測(cè)，其靈敏度，發(fā)光時(shí)間和背景均明顯優(yōu)秀。

（1）??? 可使用更高的抗體稀釋倍數(shù)(1:2000～1:10000)，極其節(jié)省抗體。

（2）??? 簡(jiǎn)單易用— 可替代其它公司的ECL發(fā)光底物，操作步驟無需進(jìn)行特別優(yōu)化

（3）??? 靈敏度更高— 可檢測(cè)低皮克級(jí)的蛋白

（4）??? 信號(hào)持續(xù)時(shí)間更長— 光信號(hào)持續(xù)時(shí)間長達(dá)5小時(shí)

（5）??? 更多成像方法— 適用于X射線膠片、CCD或激光成像儀

（6）??? 價(jià)格更經(jīng)濟(jì)— 相比其他品牌的類似產(chǎn)品，不僅具有高品質(zhì)和高性能，同時(shí)價(jià)格也更低

二. 用途：用于HRP標(biāo)記抗體的Western Blot和HRP標(biāo)記探針的核酸雜交。

三. 使用方法:

1. 執(zhí)行常規(guī)SDS-PAGE、轉(zhuǎn)膜和Western Blot步驟。注意用HRP標(biāo)記lgG或用一抗-鏈親和素-生物素-HRP夾法。

操作概述

?注：優(yōu)化抗原和抗體的濃度。必須使用建議的抗體稀釋度，以保證陽性結(jié)果。

1)? 將一抗?jié)舛认♂尩?.05～1ug/ml

2) 將二抗?jié)舛认♂尩?.005～0.04ug/mL

3) 將兩種底物組份按1:1比例混合，制備底物工作液。

注：暴漏于日光或任何其他強(qiáng)光可能損害工作液，為獲得最佳結(jié)果，將此工作液保存在琥珀色瓶中，并避免長期暴漏于任何強(qiáng)光。短時(shí)間暴漏于實(shí)驗(yàn)室常規(guī)照明不會(huì)損害該工作液。

4) 將印跡膜在ECL底物工作液中孵育5分鐘。

5) 吸出多余試劑。用清潔的塑料膜蓋住該印跡膜。

6)? 使印跡膜在X光膠片上曝光。

2. Western Blot最后一次洗膜的同時(shí)新鮮配制發(fā)光工作液：分別取等體積的溶液A和B，放入干凈容器中混合。建議立即使用工作液，室溫放置數(shù)小時(shí)后仍可使用但靈敏度略有降低。

3. 用鑷子取出膜，搭在濾紙上瀝干洗液但勿使膜完全干燥。將膜完全浸入發(fā)光工作液（0.125mL發(fā)光工作液/cm²膜）中，與發(fā)光工作液充分接觸。室溫孵育3分鐘，準(zhǔn)備立即壓片曝光。孵育時(shí)間過長不會(huì)增加靈敏度，有時(shí)還會(huì)導(dǎo)致曝光條帶異常。發(fā)光過程的本質(zhì)是酶促反應(yīng)，使用過少的發(fā)光工作液不利反應(yīng)進(jìn)行，也會(huì)導(dǎo)致膜上條帶曝光不均和明顯降低靈敏度。為達(dá)節(jié)約目的可將膜剪小但勿降低發(fā)光液用量。

4. 用鑷子夾起膜，搭在濾紙上瀝干發(fā)光工作液。但勿洗去發(fā)光液。

5. 打開X光膠片暗盒，在暗盒內(nèi)表面鋪一張面積大于膜的保鮮膜。將Western Blot膜貼在保鮮膜上，將保鮮膜折起來完全包裹Western Blot膜，去除氣泡和皺褶，可剪去邊緣部多余的保鮮膜。用濾紙吸去多余的發(fā)光工作液。用膠帶將覆蓋Western Blot膜的保鮮膜固定在暗盒內(nèi)，蛋白帶面向上。

6. 暗房內(nèi)壓X光膠片，分別曝光不同的時(shí)間如數(shù)秒到數(shù)分鐘。顯影沖洗。? ?????????

四. 儲(chǔ)存：4 ^oC密封避光保存一年以上。短期可放置室溫。

五. 安全性：無特殊毒性，按普通化學(xué)品處理。

六. 注意事項(xiàng)：

（1）步驟1～5可在日光燈下操作；但發(fā)光液曝露于強(qiáng)光下時(shí)間過久靈敏度可能略有降低，移到暗房操作可避免之。戴手套可以避免在膜上留下手印。

（2）長時(shí)間曝光或蛋白過量，將加深背景并使條帶強(qiáng)弱變化失去線性關(guān)系。曝光不足則條帶模糊。

（3）發(fā)光工作液孵育約3分鐘后膜上的條帶發(fā)光。強(qiáng)條帶發(fā)光在暗房中肉眼可見，低豐度蛋白條帶發(fā)光較弱甚至肉眼不可見但可使X光膠片曝光。不能簡(jiǎn)單以肉眼觀察判斷條帶發(fā)光時(shí)間。肉眼不可見的熒光實(shí)際上可持續(xù)數(shù)小時(shí)并使X光膠片感光，因而弱帶可曝光1-10小時(shí)。如果曝光后條帶不佳，可用洗膜緩沖液洗膜，重新孵育二抗，然后重新用ECL發(fā)光和曝光。

（4）由于超敏發(fā)光液極其靈敏，強(qiáng)烈推薦大多數(shù)進(jìn)口抗體起始濃度為一抗1:1000～1:4000，二抗1:2000～1:5000?？贵w濃度過高將造成高背景或沒有條帶，導(dǎo)致失敗。

（5）某些保鮮膜包裹印跡膜時(shí)可能會(huì)淬滅熒光，應(yīng)選擇高質(zhì)量保鮮膜。

（6）使用肉眼可見的預(yù)染色蛋白Marker和熒光-放射自顯影曝光標(biāo)簽可精確確定膠片上條帶的位置和大小。

（7）NaN₃能抑制HRP活性，回收第二抗體應(yīng)避免使用NaN₃，如必需使用勿超過0.01%。

不同ECL發(fā)光液檢測(cè)靈敏度

產(chǎn)品名稱	檢測(cè)濃度	推薦一抗孵育濃度（ng/mL）	推薦二體孵育濃度（ng/mL）
ECL plus	皮克級(jí)~10^-12g	一抗?jié)舛龋?00～500	二抗?jié)舛龋?0～50
Pico ECL	皮克級(jí)至飛克級(jí)10^-12g～10^-15g	一抗?jié)舛龋?0～200	二抗?jié)舛龋?～50
Femto ECL?	小于飛克級(jí)<10^-15g	一抗?jié)舛龋?～100	二抗?jié)舛龋?～20
Dura ECL	小于飛克級(jí)<10^-15g	一抗?jié)舛龋?～100	二抗?jié)舛龋?～10

特別提醒：

1) 本公司所有產(chǎn)品僅限于專業(yè)人員用于生命科學(xué)研究，不得用于臨床診斷或治療，不得用于食品或藥品，不得存放于普通住宅。

2)?本公司所有產(chǎn)品必須由合格專業(yè)技術(shù)人員操作同時(shí)佩戴口罩/手套/實(shí)驗(yàn)服并遵守生物實(shí)驗(yàn)室安全操作規(guī)程！

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